Aditivo Fotovoltaico
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Aditivo de microgravação VS0019
* Alto poder de limpeza: proporciona uma poderosa remoção de manchas, garantindo resultados de gravação mais limpos em pastilhas de silício.
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* Alta compatibilidade: Adequado para processos HJT e TopCon existentes.
* Seguro e ecológico: Não há riscos de combustão ou explosão, não é tóxico e não requer medidas especiais de proteção. -
Solução de gravação RCA VS0015
* Compatível com SEMI garante a limpeza do wafer.
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* Remove contaminantes orgânicos/inorgânicos, íons metálicos<1ppb.
* Compatível com wafers mono/poli e células HJT.
* Fórmula suave minimiza microfissuras, aumentando a eficiência. -
VS0013 Aditivo Texturizador de Silício Monocristalino
* A rugosidade em nanoescala reduz a refletividade abaixo de 10%.
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* Processo estável com alta consistência de lote.
* Melhora a adesão do revestimento e a durabilidade das células.
* A reação à temperatura ambiente reduz o consumo de energia em 30%.
* Fórmula de fácil enxágue evita contaminação. -
VS0014 Gravação Alcalina de Silício Monocristalino
* Cria estruturas piramidais uniformes, aumentando a captura de luz em 5%.
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* A taxa de corrosão controlada evita corrosão excessiva/insuficiente.
* Fórmula ultrapura minimiza a contaminação por sódio/ferro.
* Compatível com PERC, TOPcon e outras células de alta eficiência.
* Livre de fósforo e nitrogênio, ecológico. -
Aditivo de limpeza ácido para wafer de silício VS0016
* Remove óxidos metálicos e danos superficiais, melhorando a vida útil dos portadores minoritários.
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* O inibidor de corrosão reduz os vapores ácidos para uma operação mais segura.
* Materiais de nível eletrônico evitam contaminação. -
Aditivo de limpeza alcalino de wafer de silício VS0017
* Remove óleos e partículas de forma eficaz, melhorando a absorção da luz.
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* Fórmula pouco corrosiva protege a integridade da superfície do wafer.
* Livre de metais pesados, compatível com RoHS, fácil tratamento de águas residuais.
* Compatível com wafers mono/policristalinos e vários equipamentos.
* Fórmula concentrada reduz o custo de uso.










