Aditivo de limpeza alcalino de wafer de silício VS0017
- RISE
- Liaoning, China
- 7 dias
- 50mt/mês
* Remove óleos e partículas de forma eficaz, melhorando a absorção da luz.
* Fórmula pouco corrosiva protege a integridade da superfície do wafer.
* Livre de metais pesados, compatível com RoHS, fácil tratamento de águas residuais.
* Compatível com wafers mono/policristalinos e vários equipamentos.
* Fórmula concentrada reduz o custo de uso.
Aditivo de limpeza alcalino de wafer de silício VS0017
PRODUTO
INTRODUÇÃO
O Aditivo de Limpeza Alcalino para Wafers de Silício VS0017 é um aditivo ecologicamente correto para limpeza alcalina em texturização de silício monocristalino. É atóxico, inodoro, não corrosivo, não irritante e não apresenta riscos de incêndio ou explosão. O Aditivo de Limpeza Alcalino é adequado para limpeza alcalina durante as etapas de texturização, polimento alcalino e RCA.
Auxilia o peróxido de hidrogênio na limpeza e condicionamento de superfícies de wafer de silício antes e depois da texturização, reduzindo o consumo de peróxido de hidrogênio. O aditivo de limpeza alcalino melhora a remoção de contaminantes orgânicos e impurezas metálicas das superfícies.
PRODUTO CCARACTERÍSTICAS
Remove óleos e partículas de forma eficaz, melhorando a absorção da luz.
Fórmula pouco corrosiva que protege a integridade da superfície do wafer.
Livre de metais pesados, compatível com RoHS, fácil tratamento de águas residuais.
Compatível com wafers mono/policristalinos e vários equipamentos.
Fórmula concentrada reduz o custo de uso.
PARÂMETRO DO PRODUTO
| Nome do produto | Aditivo de limpeza alcalino/Limpador de wafer solar/Agente de limpeza fotovoltaica |
| Aparência | Líquido amarelo transparente |
| Densidade relativa | 1,05-1,15 |
| Odor | Quase inodoro |
| Valor de pH (solução não diluída) | 12h00-14h00 |
| Padrões de Implementação | Q/SDVS 010 |
APLICAÇÃO DO PRODUTO
O aditivo de limpeza alcalino é adequado para limpeza alcalina durante as etapas de texturização, polimento alcalino e RCA.Auxilia o peróxido de hidrogênio na limpeza e condicionamento de superfícies de wafer de silício antes e depois da texturização, reduzindo o consumo de peróxido de hidrogênio. O aditivo de limpeza alcalino melhora a remoção de contaminantes orgânicos e impurezas metálicas das superfícies.
EMBALAGEM
Especificações da embalagem: 10 litros por tambor
Prazo de validade:Seis meses quando armazenado lacrado em local fresco e bem ventilado.
SOBRE NÓS
A base de produção da RISE CHELICAM Laos está localizada na Zona de Desenvolvimento Abrangente de Sai Serta, em Vientiane, Laos, com uma área construída de 30.000 metros quadrados, é uma fornecedora de soluções abrangentes de produtos químicos eletrônicos úmidos e produtos químicos especiais industriais e comerciais, especializada em atender o Sudeste Asiático.
A fábrica do Laos está equipada com equipamentos de produção avançados e sistema de controle automatizado, com capacidade de produção anual de 100.000 toneladas. A base de produção do Laos adota tecnologia de purificação avançada e tecnologia de formulação patenteada, o que fornece uma forte garantia de alta eficiência e estabilidade dos produtos.
Quer se desenvolver junto conosco? Esperamos que nossos produtos ecologicamente corretos desempenhem um papel cada vez mais importante e cresçam juntos com nossos parceiros!
Sim! Somos fábrica direta com p & d profissional e fabricante de antiespumante desde 2004....more
