h2o2 de grau eletrônico
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Peróxido de hidrogênio de 35% de grau superior
Grau eletrônico de ultrapureza para limpeza de wafers semicondutores e remoção de fotorresistência Forte capacidade de oxidação para remover resíduos orgânicos de forma eficiente O baixo teor de íons metálicos evita a contaminação de componentes sensíveis Longa vida útil (2 anos) reduz a frequência de aquisição Decomposição ecológica em água e oxigênio
Peróxido de hidrogênio de alta qualidade H2O2 de grau eletrônico peróxido de hidrogênio de alta pureza 35%67Email Detalhes
