tratamento de superfície de wafer
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Aditivo de microgravação VS0019
* Alto poder de limpeza: proporciona uma poderosa remoção de manchas, garantindo resultados de gravação mais limpos em pastilhas de silício. * Alta compatibilidade: Adequado para processos HJT e TopCon existentes. * Seguro e ecológico: Não há riscos de combustão ou explosão, não é tóxico e não requer medidas especiais de proteção.
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Solução de gravação RCA VS0015
* Compatível com SEMI garante a limpeza do wafer. * Remove contaminantes orgânicos/inorgânicos, íons metálicos<1ppb. * Compatível com wafers mono/poli e células HJT. * Fórmula suave minimiza microfissuras, aumentando a eficiência.
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Aditivo de limpeza ácido para wafer de silício VS0016
* Remove óxidos metálicos e danos superficiais, melhorando a vida útil dos portadores minoritários. * O inibidor de corrosão reduz os vapores ácidos para uma operação mais segura. * Materiais de nível eletrônico evitam contaminação.
Aditivo de limpeza ácido Aditivo de ataque ácido Limpador ácido para células solares Tratamento de superfície de waferEmail Detalhes
