VS0014 Gravação Alcalina de Silício Monocristalino

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VS0014 Gravação Alcalina de Silício Monocristalino
  • RISE
  • Liaoning, China
  • 3 dias
  • 50mt/mês

* Cria estruturas piramidais uniformes, aumentando a captura de luz em 5%.
* A taxa de corrosão controlada evita corrosão excessiva/insuficiente.
* Fórmula ultrapura minimiza a contaminação por sódio/ferro.
* Compatível com PERC, TOPcon e outras células de alta eficiência.
* Livre de fósforo e nitrogênio, ecológico.

VS0014 Gravação Alcalina de Silício Monocristalino


PRODUTO

INTRODUÇÃO

O VS0014 Monocrystalline Silicon Alcalino Etching é um aditivo usado no processo de polimento alcalino de wafers de silício fotovoltaico. O VS0014 Monocrystalline Silicon Alcalino Etching contém principalmente surfactantes, catalisadores de polimento e protetores de silício.

Durante o processo de polimento alcalino de wafers de silício, a Gravação Alcalina de Silício Monocristalino VS0014 remove substâncias inorgânicas e subprodutos residuais da superfície do wafer, aumentando a molhabilidade da superfície. Ela acelera a ligação entre a solução alcalina e a superfície do wafer, reduz a energia interfacial entre a solução e o wafer, aumenta a seletividade da solução alcalina em relação ao wafer e melhora a refletividade após o polimento.


PRODUTO CCARACTERÍSTICAS

  • Alto poder de limpeza: possui poderosa capacidade de remoção de manchas, proporcionando resultados de polimento alcalino mais limpos em pastilhas de silício.

  • Base plana e uniforme: obtém uma superfície lisa após polimento alcalino com integração de base perfeita e profundidades de sulcos mais rasas.

  • Redução de custos: a estabilidade e a controlabilidade do processo permitem menores concentrações de limpeza pós-polimento alcalino.

  • Alta compatibilidade: compatível com equipamentos e processos de polimento alcalino existentes.

  • Seguro e ecológico: não há riscos de combustão ou explosão, não é tóxico e não requer medidas especiais de proteção.


PARÂMETRO DO PRODUTO


Nome do produto

Solução de gravação alcalina/solução de gravação de wafer/aditivo de texturização alcalina

AparênciaLíquido transparente amarelo claro
Densidade relativa1,00-1,09
OdorQuase inodoro
Valor de pH (solução não diluída)11h00-14h00
Padrões de ImplementaçãoQ/SDVS 010


 APLICAÇÃO DO PRODUTO

Durante o processo de polimento alcalino de wafers de silício, a Gravação Alcalina de Silício Monocristalino VS0014 remove substâncias inorgânicas e subprodutos residuais da superfície do wafer, aumentando a molhabilidade da superfície. Ela acelera a ligação entre a solução alcalina e a superfície do wafer, reduz a energia interfacial entre a solução e o wafer, aumenta a seletividade da solução alcalina em relação ao wafer e melhora a refletividade após o polimento.


EMBALAGEM

Especificações de embalagem: 10 litros por tambor

Prazo de validade:Seis meses quando armazenado lacrado em local fresco e bem ventilado.


SOBRE NÓS

Alkaline Etching

A base de produção da RISE CHELICAM Laos está localizada na Zona de Desenvolvimento Abrangente de Sai Serta, em Vientiane, Laos, com uma área construída de 30.000 metros quadrados, é uma fornecedora de soluções abrangentes de produtos químicos eletrônicos úmidos e produtos químicos especiais industriais e comerciais, especializada em atender o Sudeste Asiático.

A fábrica do Laos está equipada com equipamentos de produção avançados e sistema de controle automatizado, com capacidade de produção anual de 100.000 toneladas. A base de produção do Laos adota tecnologia de purificação avançada e tecnologia de formulação patenteada, o que fornece uma forte garantia de alta eficiência e estabilidade dos produtos. 

Wafer etching solution


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